剥離液 N-530シリーズ

ゴム系ネガレジストは酸及びアルカリへの耐性が強く、ウエハーへの密着性が高いという特徴から古くからフォトリソグラフィー工程用材料として利用されています。
ポジレジストの普及に伴い、ゴムネガレジストの利用は減少傾向にありますが、その特性の都合で利用が続けられている分野も残っています。我々は長い歴史を持つゴムネガレジストを利用した工程に適した剥離液を、長きに渡り提供してきました。

N-530シリーズはゴム系ネガレジスト用剥離液で、レジストの溶解性が高く、各種金属へのダメージ性が最小限に抑えられる特徴を持ちます。
また、フェノールや塩素を含まず、環境にも配慮されています。