ナガセケムテックス株式会社では、サステナブル社会への貢献のため、様々な素材を開発しています。

超微細半導体やフラットパネル製造において、工程短縮や使用材料の削減に貢献する、リフトオフプロセスに対応したフォトレジストを開発し、2022年1月19日より開催の「第36回 ネプコン ジャパン」にポスターを出展しました。
ポスターをカタログページに公開しましたので、ぜひご覧ください。

出展品

■ 電子部品・半導体デバイス用フォトレジスト

• リフトオフプロセス用単層レジスト
• リフトオフプロセス用2層レジスト
• フォトマスク製造用レジスト
• パワーモジュール製造用レジスト

詳細は以下のページより、ポスターをダウンロードしてご確認ください。