半導体業界で20年以上の製造実績

単層/2層対応
ポジ型
リフトオフレジスト

~お客様の工程に合わせたレジストを
ご提案します~

SCROLL

NAGASE’s Lift-off Resist

弊社ではリフトオフプロセスに対応した特徴的なフォトレジスト(感光性材料)を開発しています。

単層ポジ型レジストをはじめ、細線化に対応した2層型の各層レジストも取り揃えております。

2層型は業界汎用品に比べ、低温ベークにより容易なサイドエッチングのコントロールを実現。

お客様の個別のニーズ、細かなご要望にあわせた材料開発もご相談を承ります。

  • g~i線露光

    g~i線露光

  • 容易な形状のコントロール

    容易な形状のコントロール

  • 容易に剥離可能

    容易に剥離可能

用途

  • Market

    Market

  • Device

    Device

  • Method

    Method

サービス

少量サンプル~大量生産までご相談にお応え応致します。

粘度調整や形状コントロールもご相談ください。

長年の電子業界での経験を活かし、様々なニーズにお応え致します。

Nagase ChemteXについて

素材の特性を引き出す化学の力と、
それを支えるテクノロジーで新たな価値を創造する。

それが私たちナガセケムテックスです。