光罩 (Photomask)

  • 功能介紹

    - 提供適用於各種步進式曝光機（Stepper）與對準曝光機（Aligner）應用的光罩
    - 可靈活滿足客戶需求，包括客製化加工要求
    - 可提供 0.5um 線寬／線距（Line & Space）光罩圖案製造
    - 可平滑形成斜線與曲線，無階梯狀缺陷
    - 適用於功率元件、SAW Filter、MEMS、LED、OLED、PCB、BGA等
    - 已建立可靠且完善的品質保證體系


    光罩 (Photomask)


    光罩 (Photomask)

    • Nippon Filcon Co., Ltd.
    自1982年創立以來，Nippon Filcon光罩部門始終專注於光罩的研發與製造，產品廣泛應用於半導體、顯示器、PCB等尖端領域。憑藉多年累積的技術與經驗，以「優良品質、快速對應、合理價格」為核心理念，持續為客戶提供高效可靠的解決方案。
    Nippon Filcon
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