精密洗浄技術
ナノレベルでのデバイス洗浄、残渣除去が可能です。特に先端材料や電子部品の分野では、構造の微細化が進み、目には見えないサブミクロンからナノメーター（場合によってはそれ以下） オーダーの汚れを取り除く必要性が増しています。このような分野では、超微細な汚れやイオンの残留が製品の電気特性に致命的な欠陥を引き起こすことから、適切な薬液の使用と洗浄工程の確立が大変重要となっています。
NAGASEの精密洗浄技術は、このような超微細汚れを除去することを可能とし、製品の信頼性や品質を向上させる薬液の開発を実現しています。
精密洗浄技術の適用例
NAGASEでは、お客さまの要求に答える正常な洗浄仕上がりを実現すべく、メタルスペックや洗浄液中の微粒子数（パーティクル）の管理を行い、除去が難しい汚れを素材にダメージなく除去できる薬液をご提案しています。
洗浄事例：シリコンウエハー上の熱処理済UV硬化樹脂の除去（レーザー顕微鏡画像）
洗浄前
洗浄
洗浄後
洗浄事例：シリコンウエハー上の熱変成樹脂の除去（ウエハー上の残渣数カウント）
従来品
従来品の0~0.1umの残渣数を100%として比較
NAGASE改良品
改良品は大幅に残渣数が減少
