電子部品・光学部品・FPD向け薬液
電子部品・光学部品・FPD分野では、フォトリソグラフィ工程を用いた金属配線形成が行われることが少なくありません。業界により利用するレジスト種はさまざまで、工程によって洗浄ニーズもさまざまです。多用なニーズにお応えするレジスト剥離液やエッチャントを当社ではご提案可能です。当社がご提案可能なレジスト剥離液の選び方をフローでは示しています。レジスト種や工程に応じてご提案アイテムが変わりますので、フロー図を参考に詳細はお問い合わせください。
利用する各種電子部品や、Flat Panel Display（FPD）の製造工程の課題を解決する薬液群をご用意しております。
フォトリソグラフィ工程
電子部品やFPD業界では、電子回路の形成にフォトリソグラフィ工程を利用します。
以下の図では、その工程の例として、サブトラクティブ工程を示しています。現像、剥離、エッチングの各工程で必要となる薬液（現像液、剥離液、エッチャント）をご用意しております。
金属配線(SEM)
フォトリソグラフィプロセスでは主に4つの薬液を必要とします
フォトリソグラフィ工程向け剥離液（レジスト種類別）ラインナップ
※ その他、薬液と接する部材、金属種によって選択される薬液は変わりますので、 詳細はお問合せください。
※ ITO、アルミなどのエッチャントについては別途お問い合わせください。
製品情報
フォトレジスト用剥離液 N-300
N-300は、非水のフォトレジスト用剥離液です。N-300はAlやSiをほとんど腐食することなく、フォトレジストを剥離することができます。
特徴
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フォトレジストに対する優れた剥離性
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Alに対してダメージが非常に少ない
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a-Siおよびpoly-Siに対してダメージが非常に少ない
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比重(25°C):0.97
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粘度(25°C) 10mPa•s
プロセス例
Dip or Shower
Dip or Shower
Dip or Shower
剥離例
注意事項
ご使用の前にSDSをお読みください。
フォトレジスト用剥離液 N-342
N-342は含水のフォトレジスト用剥離液です。N-342は剥離時にAl腐食が発生しやすい場合に適しています。N-342は水分補給により長期間使用可能であり、環境にやさしい剥離剤です。
特徴
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フォトレジストに対する優れた剥離性
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消防法の危険物に該当しない
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剥離後に直接水洗が可能
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水分管理により、バスライフ延長が可能
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比重（25°C）：0.99
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粘度（25°C） 10mPa's
プロセス例
0.5~5min
Shower
Shower
剥離例
注意事項
ご使用の前にSDSをお読みください。
