世界の
ものづくりを支える
NAGASEの洗浄技術
私たちのウェットケミカル技術を支える４つのコア技術をベースとして、通常では両立が困難な、除去したい対象物のみを除去し、他にはダメージを与えないというトレードオフ関係を解消する薬液開発・販売に特に力を入れています（高選択化技術）。これら薬液は、先端半導体向け、電子部品・FPD工程、その他新規分野向けの精密洗浄液・ケミカルとして、国内外で展開しています。
洗浄工程は、あらゆる産業において製品の要求品質を安定的に実現するために欠かせない工程です。特に、半導体や電子部品製造工程においては、マイクロメーターからサブミクロンレベルでの汚れを除去する必要があり、精密洗浄が必要になります。近年、特に先端半導体を中心に微細加工技術の発展に伴う部品構造の複雑化により、精密洗浄より実現すべき清浄度の難易度は増しています。精密洗浄により実現できることは、製品製造効率（タクトタイム）や歩留まりの向上が上げられ、環境エネルギーコストへの関心の高まりもあり、洗浄工程最適化はますます重要となってきています。
NAGASEは、半導体・電子部品・フラットパネルディスプレイ（FPD）など微細加工が要求される分野で培った精密洗浄技術から、お客さまごとのニーズ・工程に合わせた洗浄液設計を行うとともに、環境負荷に配慮しつつ洗浄性に優れた精密洗浄液の開発展開も進めています。
